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製品紹介

洗浄機・一般工業・研究開発装置


真空蒸着装置 
抵抗加熱式の真空蒸着装置


 
 
 
 
 
 
特徴

ラボで使用するのに最適なコンパクトサイズで金属、金属酸化物の蒸着ができる

仕様
項 目 仕 様
チャンバ-内寸 W300×D300×H400(mm) 
到達真空度 4Paオーダ-まで大気圧から約30分(金蒸着の場合の目安)
蒸着方式  抵抗加熱 2元 (同時蒸着不可)
水晶発信式膜厚モニタ-付き 基板ホルダ-回転機構を装備。回転数調整機能付き。
シャッタ- 蒸着源及び基板ホルダ-部に装備
真空ポンプ ロータリ-ポンプ+拡散ポンプ
真空計  ピラニ真空計+広帯域電離真空計
制御方式 プログラマブルシ-ケンサ-
装置サイズ W800×D770×H1510(mm)/標準
重量 約180Kg
電源  AC200V 3相 50Hz/60Hz  30A
圧縮空気 0.6Mpa~1Mpa  50L/min以上
圧縮窒素 0.3Mpa~0.7Mpa  30L/min
冷却水 3L/MIN(20度) 差圧0.2MPa必要。
仕様

※仕様は基板サイズにより異なります。 詳細はお問合せ下さい。

 
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飯沼ゲージ製作所
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